南京清微电子科技有限责任公司  
Nanjing Microclear Electronics Technology Co. Ltd.
 

    主要服务:光刻掩膜版制版;提供技术咨询;代客户制图。

 
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南京清微电子科技有限责任公司成立于2005年10月。主要提供各类光刻掩膜版的技术咨询、数据处理、掩膜定制等服务。服务对象主要是大学、研究所以及需要使用光刻掩膜版的企业。

2007年初, 清微电子在南京汤山工业园建厂投产。

2010年,为满足日益增加的用户需求,清微电子自建厂房,在江苏省丹阳市开发区建设500平米百级洁净厂房, 恒温车间温度偏差+-0.5摄氏度,为生产高品质掩膜版打下坚实的基础。同时组建了专业的工程师队伍和成熟的工艺团队,形成年产3000片母板和10000片子版的生产能力。

清微电子不断完善工艺、强化科学管理、降低成本能耗,致力于为客户提供优质、低价的掩膜制作服务。

可制作掩膜版尺寸:2.5"、3"、4"、5"、6"、7"、8"*10"

可制作最小线宽:0.5um.

主要设备:

1、美国Electromask公司的CC251光学制版设备;

2、美国Tamarack公司的Tamarack 142 翻版机;

3、德国Leica公司的Leitz MVG 7X7 mask comparator显微套准检验仪;

4、Olympus测量显微镜及其他工艺显微镜。

 

竭诚为您提供细致、精准的服务!

 

 

 

公司大事记:

(1) 2005年10月24日公司成立.

(2) 2007年2月,公司制版生产线投产. 

 

 

更新日期: 2011-01-03

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